ASTM E2245-11e1 Стандартный метод испытаний для измерения остаточной деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра - Стандарты и спецификации PDF

ASTM E2245-11e1
Стандартный метод испытаний для измерения остаточной деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра

Стандартный №
ASTM E2245-11e1
Дата публикации
2011
Разместил
American Society for Testing and Materials (ASTM)
состояние
быть заменен
ASTM E2245-11(2018)
Последняя версия
ASTM E2245-11(2018)
сфера применения
5.1. Измерения остаточной деформации помогают при проектировании и изготовлении устройств MEMS. Значение остаточной деформации можно использовать в расчетах модуля Юнга. 1.1. Этот метод испытаний охватывает процедуру измерения остаточной деформации сжатия в тонких пленках. Это применимо только к пленкам, например, содержащимся в материалах микроэлектромеханических систем (МЭМС), изображения которых можно получить с помощью оптического интерферометра, также называемого интерферометрическим микроскопом. Измерения от неподвижно закрепленных балок, соприкасающихся с нижележащим слоем, не принимаются. 1.2 В этом методе испытаний используется бесконтактный оптический интерферометрический микроскоп с возможностью получения наборов топографических трехмерных данных. Оно проводится в лаборатории. 1.3. Настоящий стандарт не претендует на решение всех проблем безопасности, если таковые имеются, связанных с его использованием. Пользователь настоящего стандарта несет ответственность за установление соответствующих мер безопасности и охраны труда и определение применимости нормативных ограничений перед использованием.

ASTM E2245-11e1 Ссылочный документ

  • ASTM E2244 Стандартный метод испытаний для измерения длины тонких отражающих пленок в плоскости с использованием оптического интерферометра
  • ASTM E2246 Стандартный метод испытаний для измерения градиента деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра
  • ASTM E2444 Терминология, относящаяся к измерениям, проводимым на тонких отражающих пленках
  • ASTM E2530 Стандартная практика калибровки Z-увеличения атомно-силового микроскопа на субнанометровых уровнях смещения с использованием моноатомных ступеней Si(111)

ASTM E2245-11e1 История

  • 2018 ASTM E2245-11(2018) Стандартный метод испытаний для измерения остаточной деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра
  • 2011 ASTM E2245-11e1 Стандартный метод испытаний для измерения остаточной деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра
  • 2011 ASTM E2245-11 Стандартный метод испытаний для измерения остаточной деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра
  • 2005 ASTM E2245-05 Стандартный метод испытаний для измерения остаточной деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра
  • 2002 ASTM E2245-02 Стандартный метод испытаний для измерения остаточной деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра



© 2023. Все права защищены.