ASTM E2245-11(2018) Стандартный метод испытаний для измерения остаточной деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра
1.1 Настоящий метод испытаний охватывает процедуру измерения остаточной деформации сжатия в тонких пленках. Это применимо только к пленкам, например, содержащимся в материалах микроэлектромеханических систем (МЭМС), изображения которых можно получить с помощью оптического интерферометра, также называемого интерферометрическим микроскопом. Измерения от неподвижно закрепленных балок, соприкасающихся с нижележащим слоем, не принимаются. 1.2 В этом методе испытаний используется бесконтактный оптический интерферометрический микроскоп с возможностью получения наборов топографических трехмерных данных. Оно выполняется в лаборатории. 1.3 Настоящий стандарт не претендует на решение всех проблем безопасности, если таковые имеются, связанных с его использованием. Пользователь настоящего стандарта несет ответственность за установление соответствующих мер безопасности, охраны труда и окружающей среды, а также определение применимости нормативных ограничений перед использованием. 1.4 Настоящий международный стандарт был разработан в соответствии с международно признанными принципами стандартизации, установленными в Решении о принципах разработки международных стандартов, руководств и рекомендаций, выпущенном Комитетом Всемирной торговой организации по техническим барьерам в торговле (ТБТ).
ASTM E2245-11(2018) Ссылочный документ
ASTM E2244 Стандартный метод испытаний для измерения длины тонких отражающих пленок в плоскости с использованием оптического интерферометра*, 2023-10-29 Обновление
ASTM E2246 Стандартный метод испытаний для измерения градиента деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра*, 2023-10-29 Обновление
ASTM E2444 Терминология, относящаяся к измерениям, проводимым на тонких отражающих пленках*, 2023-10-29 Обновление
ASTM E2530 Стандартная практика калибровки Z-увеличения атомно-силового микроскопа на субнанометровых уровнях смещения с использованием моноатомных ступеней Si(111)*, 2023-10-29 Обновление
ASTM E2245-11(2018) История
2018ASTM E2245-11(2018) Стандартный метод испытаний для измерения остаточной деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра
2011ASTM E2245-11e1 Стандартный метод испытаний для измерения остаточной деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра
2011ASTM E2245-11 Стандартный метод испытаний для измерения остаточной деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра
2005ASTM E2245-05 Стандартный метод испытаний для измерения остаточной деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра
2002ASTM E2245-02 Стандартный метод испытаний для измерения остаточной деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра