GB/T 14141-2009 (Англоязычная версия) Метод испытаний поверхностного сопротивления эпитаксиальных, диффузных и ионно-имплантированных слоев кремния с использованием коллинеарной четырехзондовой установки

Стандартный №: GB/T 14141-2009
язык: Китайский, Доступно на английском
Дата публикации: 2009
Разместил: General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
Последняя версия: GB/T 14141-2009
заменять: GB/T 14141-1993

сфера применения: Этот стандарт определяет метод измерения поверхностного сопротивления эпитаксиального слоя кремния, диффузионного слоя и слоя ионной имплантации с помощью четырех встроенных датчиков. Настоящий стандарт применим для измерения среднего поверхностного сопротивления тонкого слоя, сформированного на или под поверхностью кремниевой пластины путем эпитаксии, диффузии или ионной имплантации, диаметром более 15,9 мм. Тип проводимости кремниевой подложки противоположен типу проводимости измеряемого тонкого слоя. Он подходит для измерения тонких слоев толщиной не менее 0,2 мкм, а диапазон измерения поверхностного сопротивления составляет 10 Ом ~ 5000 Ом. Этот метод также можно адаптировать для измерения сопротивления листа с более высокими или более низкими значениями, но точность его измерения не оценивалась.

GB/T 14141-2009 Ссылочный документ

GB/T 11073-2007 Стандартный метод измерения изменения радиального удельного сопротивления на срезах кремния.
GB/T 1552-1995 Методика измерения удельного сопротивления монокристаллического кремния и германия коллинеарной четырехзондовой решеткой

GB/T 14141-2009 История

2009 GB/T 14141-2009 Метод испытаний поверхностного сопротивления эпитаксиальных, диффузных и ионно-имплантированных слоев кремния с использованием коллинеарной четырехзондовой установки
1993 GB/T 14141-1993 Метод испытаний поверхностного сопротивления эпитаксиальных, диффузных и ионно-имплантированных слоев кремния с использованием коллинеарной четырехзондовой установки