ISO 17331:2004
Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов кремниевых пластин и их определение методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии полного отражения (TXRF).
- Стандартный №
- ISO 17331:2004
- Дата публикации
- 2004
- Разместил
- International Organization for Standardization (ISO)
- состояние
- быть заменен
- ISO 17331:2004/Amd 1:2010
- Последняя версия
- ISO 17331:2004/Amd 1:2010
- сфера применения
- Настоящий международный стандарт определяет химические методы сбора железа и/или никеля с поверхности рабочих эталонных материалов кремниевых пластин методом парофазного разложения или методом прямого кислотно-капельного разложения. Настоящий международный стандарт применяется к поверхностной плотности атомов железа и/или никеля от 6 × 109 атомов/см2 до 5 × 1011 атомов/см2.
ISO 17331:2004 Ссылочный документ
- ISO 14644-1:1999 Чистые помещения и связанные с ними контролируемые среды. Часть 1. Классификация чистоты воздуха
- ISO 14706:2000 Химический анализ поверхности. Определение поверхностного элементарного загрязнения кремниевых пластин методом рентгенофлуоресцентной спектроскопии полного отражения (TXRF).
- ISO 5725-2:1994 Точность (правильность и прецизионность) методов и результатов измерений. Часть 2. Основной метод определения повторяемости и воспроизводимости стандартного метода измерений.
ISO 17331:2004 История
- 2010 ISO 17331:2004/Amd 1:2010 Химический анализ поверхности - Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов кремниевых пластин и их определение методом рентгенофлуоресцентной спектроскопии полного отражения (TXRF); Поправка 1
- 2004 ISO 17331:2004 Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов кремниевых пластин и их определение методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии полного отражения (TXRF).
