Эта часть IEC 60749 определяет (см. примечание) целостность материалов и процедур, используемых для крепления полупроводникового кристалла к заголовкам корпуса или другим подложкам (для целей данного метода испытаний термин «полупроводниковый кристалл» следует понимать для включения пассивных элементов). . Этот метод испытаний обычно применим только для полых упаковок или в качестве монитора процесса. Он не применим для участков матрицы размером более 10 мм. Он также неприменим к технологии флип-чипов или гибким подложкам. П р и м е ч а н и е — Это определение основано на измерении силы, приложенной к штампу или элементу, и, в случае возникновения отказа, на типе разрушения, возникающего в результате приложения силы, а также на внешнем виде остаточной среды крепления штампа и заголовка. /металлизация подложки.
IEC 60749-19:2003 История
2010IEC 60749-19:2003/AMD1:2010 Полупроводниковые приборы. Механические и климатические методы испытаний. Часть 19. Испытание на прочность на сдвиг.
2010IEC 60749-19:2010 Полупроводниковые приборы. Механические и климатические методы испытаний. Часть 19. Испытание на прочность на сдвиг.
2003IEC 60749-19:2003 Полупроводниковые приборы Механические и климатические методы испытаний Часть 19. Прочность стружки на сдвиг (Редакция 1.0)