ASTM E423-71(2014)
Стандартный метод испытания нормального спектрального эмиттанса непроводящих образцов при повышенных температурах
- Стандартный №
- ASTM E423-71(2014)
- Дата публикации
- 1971
- Разместил
- American Society for Testing and Materials (ASTM)
- состояние
- быть заменен
- ASTM E423-71(2019)
- Последняя версия
- ASTM E423-71(2019)
- сфера применения
- 5.1. Основные особенности типичны для обсуждения ограничений метода. Благодаря описанию и устройству, приведенным в следующих частях данного метода испытаний, прибор будет непосредственно регистрировать нормальный спектральный коэффициент излучения образца. Однако следующие условия должны соблюдаться в пределах допустимого допуска или необходимо внести поправки в указанные условия. 5.1.1. Эффективные температуры образца и абсолютно черного тела должны отличаться друг от друга в пределах 1 К. Однако возникают практические ограничения, поскольку однородность температуры часто не превышает нескольких градусов Кельвина. 5.1.2. Длина оптического пути в двух лучах должна быть одинаковой или, что предпочтительнее, прибор должен работать в непоглощающей атмосфере, чтобы исключить эффекты дифференциального атмосферного поглощения в двух лучах. Измерения на воздухе во многих случаях важны и не обязательно дадут такие же результаты, как в вакууме, поэтому равенство оптических путей для двухлучевых приборов становится очень важным. Примечание 4. Очень тщательное оптическое выравнивание Спектрофотометр необходим для минимизации различий в поглощении на двух путях прибора, а также тщательной настройки времени прерывателя для уменьшения «перекрестных помех»; (перекрытие сигналов эталона и образца), а также меры предосторожности по уменьшению паразитного излучения в спектрофотометре необходимы для поддержания ровной нулевой линии. При наилучшей настройке линия &#“100 %&#” будет неизменным с точностью до 3%. 5.1.3. Зеркальная оптика на передней поверхности должна использоваться повсюду, за исключением призмы в призматических монохроматорах, и следует подчеркнуть, что в обоих лучах должны использоваться эквивалентные оптические элементы, чтобы уменьшить и сбалансировать затухание лучи за счет поглощения в оптических элементах. Рекомендуется, чтобы оптические поверхности не содержали SiO2 и покрытий SiO: MgF2 можно использовать для стабилизации зеркальных поверхностей в течение длительного периода времени. Оптические характеристики этих покрытий имеют решающее значение, но их можно ослабить, если во время измерений все оптические пути фиксированы или углы падения не изменяются между режимами работы (во время измерений линии 0 %, линии 100 % и образца). Рекомендуется, чтобы все оптические элементы были достаточно наполнены энергией. 5.1.4. Апертуры источника и поля двух лучей должны быть равны, чтобы гарантировать, что лучистый поток в двух лучах, сравниваемых аппаратом, будет относиться к равным площадям источников и равным телесным углам излучения. В некоторых случаях может быть желательно определить телесный угол источника и образца при сравнении альтернативных методов измерения. 5.1.5. Реакция системы детектор-усилитель должна изменяться линейно в зависимости от падающего потока излучения или должна быть откалибрована на линейность, а также внесены поправки на наблюдаемые отклонения от линейности. 1.1. Настоящий метод испытаний описывает точную методику измерения нормального спектрального коэффициента эмиттанса электронепроводящих материалов в диапазоне температур от 1000 до 1800 К и на длинах волн от 1 до 35 мкм. Он особенно подходит для измерения нормального спектрального коэффициента излучения таких материалов, как оксиды керамики, которые имеют относительно низкую теплопроводность и полупрозрачны на значительную глубину (несколько миллиметров) под поверхностью, но которые становятся существенными...
ASTM E423-71(2014) Ссылочный документ
- ASTM E349 Стандартная терминология, относящаяся к космическому моделированию*， 2019-10-01 Обновление
ASTM E423-71(2014) История
- 2019 ASTM E423-71(2019) Стандартный метод испытания нормального спектрального эмиттанса непроводящих образцов при повышенных температурах
- 1971 ASTM E423-71(2014) Стандартный метод испытания нормального спектрального эмиттанса непроводящих образцов при повышенных температурах
- 1971 ASTM E423-71(2008) Стандартный метод испытания нормального спектрального эмиттанса непроводящих образцов при повышенных температурах
- 1971 ASTM E423-71(2002) Стандартный метод испытания нормального спектрального эмиттанса непроводящих образцов при повышенных температурах
- 1971 ASTM E423-71(1996)e1 Стандартный метод испытания нормального спектрального эмиттанса непроводящих образцов при повышенных температурах
