GB/T 14847-2010 (Англоязычная версия) Метод определения толщины эпитаксиальных слоев легколегированного кремния на подложках из сильнолегированного кремния методом отражения инфракрасного излучения

Стандартный №: GB/T 14847-2010
язык: Китайский, Доступно на английском
Дата публикации: 2011
Разместил: General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China
Последняя версия: GB/T 14847-2010
заменять: GB/T 14847-1993

сфера применения: Этот стандарт определяет метод измерения коэффициента отражения инфракрасного излучения для толщины эпитаксиального слоя легколегированного кремния на сильнолегированной подложке. Настоящий стандарт применяется к измерению толщины эпитаксиальных слоев кремния n-типа и p-типа, удельное сопротивление подложки которых составляет менее 0,02 Ом·см при 23°C, а удельное сопротивление эпитаксиального слоя превышает 0,1 Ом·см. при 23°С и толщине эпитаксиального слоя более 2 мкм; С точки зрения точности этот метод в принципе также подходит для проверки толщины эпитаксиальных слоев n-типа и p-типа от 0,5 до 2 мкм.

GB/T 14847-2010 Ссылочный документ

GB/T 14264 Полупроводниковые материалы. Термины и определения
GB/T 1552 Методика измерения удельного сопротивления монокристаллического кремния и германия коллинеарной четырехзондовой решеткой
GB/T 6379.2 Точность (правильность и точность) методов измерения и результатов. Часть 2: Основной метод определения повторяемости и воспроизводимости стандартного метода измерения.

2011 GB/T 14847-2010 Метод определения толщины эпитаксиальных слоев легколегированного кремния на подложках из сильнолегированного кремния методом отражения инфракрасного излучения
1993 GB/T 14847-1993 Метод определения толщины эктаксиальных слоев легколегированного кремния на подложках из сильнолегированного кремния по коэффициенту отражения инфракрасного излучения