ISO 18114:2003 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение коэффициентов относительной чувствительности на основе ионно-имплантированных эталонных материалов. - Стандарты и спецификации PDF

ISO 18114:2003
Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение коэффициентов относительной чувствительности на основе ионно-имплантированных эталонных материалов.

Стандартный №
ISO 18114:2003
Дата публикации
2003
Разместил
International Organization for Standardization (ISO)
состояние
быть заменен
ISO 18114:2021
Последняя версия
ISO 18114:2021
сфера применения
Настоящий международный стандарт определяет метод определения коэффициентов относительной чувствительности (RSF) для масс-спектрометрии вторичных ионов (SIMS) на основе ионно-имплантированных эталонных материалов. Метод применим к образцам, матрица которых имеет однородный химический состав и в которых пиковая концентрация имплантированных частиц не превышает одного атомного процента.

ISO 18114:2003 Ссылочный документ

  • ISO 18115 Химический анализ поверхности - Словарь; Поправка 2*2007-12-01 Обновление

ISO 18114:2003 История

  • 2021 ISO 18114:2021 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение коэффициентов относительной чувствительности на основе ионно-имплантированных эталонных материалов.
  • 2003 ISO 18114:2003 Химический анализ поверхности. Вторично-ионная масс-спектрометрия. Определение коэффициентов относительной чувствительности на основе ионно-имплантированных эталонных материалов.



© 2023. Все права защищены.