PD CEN/TS 16599:2014
Фотокатализ. Условия облучения для испытания фотокаталитических свойств полупроводниковых материалов и измерения этих условий.
- Стандартный №
- PD CEN/TS 16599:2014
- Дата публикации
- 2014
- Разместил
- European Committee for Standardization (CEN)
- Последняя версия
- PD CEN/TS 16599:2014
- заменять
- FprCEN/TS 16599-2013
- сфера применения
- Настоящие технические условия определяют условия облучения фотокаталитических поверхностей с целью проведения испытаний фотокаталитической эффективности. Кроме того, приводятся измерения и документирование этих условий облучения в отношении спектрального распределения, освещенности и однородности.
PD CEN/TS 16599:2014 Ссылочный документ
- CIE 85-1989 Солнечное спектральное излучение (1-е издание) (E)
- CIE S 017-2011
- EN ISO 4892-1:2000 Пластмассы. Методы воздействия лабораторных источников света. Часть 1. Общее руководство.
- EN ISO 4892-2:2013 Пластмассы. Методы воздействия лабораторных источников света. Часть 2. Ксеноновые дуговые лампы.
- EN ISO 4892-3:2013 Пластмассы. Методы воздействия лабораторных источников света. Часть 3. Люминесцентные УФ-лампы.
- ISO 10677:2011 Тонкая керамика (современная керамика, усовершенствованная техническая керамика) - Источник ультрафиолетового света для тестирования полупроводниковых фотокаталитических материалов.
- ISO 14605:2013 Тонкая керамика (современная керамика, передовая техническая керамика). Источник света для тестирования полупроводниковых фотокаталитических материалов, используемых в условиях внутреннего освещения.
- ISO 22197-1:2007 Тонкая керамика (усовершенствованная керамика, усовершенствованная техническая керамика). Метод испытания характеристик очистки воздуха полупроводниковых фотокаталитических материалов. Часть 1. Удаление оксида азота.
PD CEN/TS 16599:2014 История
- 2014 PD CEN/TS 16599:2014 Фотокатализ. Условия облучения для испытания фотокаталитических свойств полупроводниковых материалов и измерения этих условий.
