ISO 16531:2013 Химический анализ поверхности. Профилирование по глубине. Методы выравнивания ионного пучка и связанное с этим измерение тока или плотности тока для профилирования по глубине в AES и XPS.

сфера применения: Настоящий международный стандарт определяет методы выравнивания ионного пучка для обеспечения хорошего разрешения по глубине при профилировании глубины распыления и оптимальной очистки поверхностей при использовании ионов инертного газа в электронной оже-спектроскопии и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии. Эти методы бывают двух типов: один включает в себя измерение ионного тока с помощью чашки Фарадея; другой включает методы визуализации. Метод чашки Фарадея также позволяет измерять плотность и распределение тока в ионных пучках. Методы применимы для ионных пушек с диаметром пятна менее ~1 мм. Методы не включают оптимизацию разрешения по глубине.

ISO 16531:2013 Ссылочный документ

ISO 18115-1 Химический анализ поверхности. Словарь. Часть 1. Общие термины и термины, используемые в спектроскопии.*， 2023-06-01 Обновление

2020 ISO 16531:2020 Химический анализ поверхности. Профилирование по глубине. Методы выравнивания ионного пучка и связанное с этим измерение тока или плотности тока для профилирования по глубине в AES и XPS.
2013 ISO 16531:2013 Химический анализ поверхности. Профилирование по глубине. Методы выравнивания ионного пучка и связанное с этим измерение тока или плотности тока для профилирования по глубине в AES и XPS.