Значения градиента деформации помогают при проектировании и изготовлении устройств MEMS. 1.1 Этот метод испытаний охватывает процедуру измерения градиента деформации в тонких отражающих пленках. Это применимо только к пленкам, например, содержащимся в материалах микроэлектромеханических систем (МЭМС), изображения которых можно получить с помощью оптического интерферометра, также называемого интерферометрическим микроскопом. Измерения от кантилеверов, соприкасающихся с нижележащим слоем, не принимаются. 1.2 В этом методе испытаний используется бесконтактный оптический интерферометрический микроскоп с возможностью получения наборов топографических трехмерных данных. Оно выполняется в лаборатории. 1.3 Настоящий стандарт не претендует на решение всех проблем безопасности, если таковые имеются, связанных с его использованием. Пользователь настоящего стандарта несет ответственность за установление соответствующих мер безопасности и охраны труда и определение применимости нормативных ограничений перед использованием.
ASTM E2246-11 История
2018ASTM E2246-11(2018) Стандартный метод испытаний для измерения градиента деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра
2011ASTM E2246-11e1 Стандартный метод испытаний для измерения градиента деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра
2011ASTM E2246-11 Стандартный метод испытаний для измерения градиента деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра
2005ASTM E2246-05 Стандартный метод испытаний для измерения градиента деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра
2002ASTM E2246-02 Стандартный метод испытаний для измерения градиента деформации тонких отражающих пленок с использованием оптического интерферометра