JIS K 0150:2009 Химический анализ поверхности. Анализ металлических покрытий на основе цинка и/или алюминия методом оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда. - Стандарты и спецификации PDF

JIS K 0150:2009
Химический анализ поверхности. Анализ металлических покрытий на основе цинка и/или алюминия методом оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда.

Стандартный №
JIS K 0150:2009
Дата публикации
2009
Разместил
Japanese Industrial Standards Committee (JISC)
Последняя версия
JIS K 0150:2009
сфера применения
Настоящий стандарт определяет оптико-эмиссионный спектрометрический метод тлеющего разряда для определения толщины, массы на единицу площади и химического состава покрытий металлических поверхностей, состоящих из материалов на основе цинка и/или алюминия. В качестве легирующих элементов рассматриваются никель, железо, кремний, свинец и сурьма. Этот метод применим к содержанию цинка от 0,01 до 100 мас.%; содержание алюминия от 0,01 до 100 мас.%; содержание никеля от 0,01 до 20 мас.%; содержание железа от 0,01 до 20 мас.%; содержание кремния от 0,01 до 10 мас.%; содержание свинца от 0,005 мас.% до 2 мас.%; содержание сурьмы от 0,005 мас.% до 2 мас.%. ПРИМЕЧАНИЕ. Международный стандарт, соответствующий настоящему стандарту, следующий. ISO 16962:2005 Химический анализ поверхности. Анализ металлических покрытий на основе цинка и/или алюминия методом оптико-эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда (IDT). Кроме того, символы, обозначающие степень соответствия содержания между соответствующим международным стандартом и JIS — это IDT/идентичный), MOD (модифицированный) и NEQ (не эквивалентный) в соответствии с Руководством ISO/IEC Guide 21.

JIS K 0150:2009 Ссылочный документ

  • ISO 17925:2004  Покрытия на основе цинка и/или алюминия на стали. Определение массы покрытия на единицу площади и химического состава. Гравиметрия, атомно-эмиссионная спектрометрия с индуктивно-связанной плазмой и атомно-абсорбционная спектрометрия в пламени.
  • JIS G 0417 Сталь и железо. Отбор и подготовка проб для определения химического состава
  • JIS K 0144 Химический анализ поверхности. Оптическая эмиссионная спектрометрия тлеющего разряда (GD-OES). Введение в использование.*2018-02-20 Обновление
  • JIS Z 8402-1  Точность (правильность и прецизионность) методов и результатов измерений. Часть 1. Общие принципы и определения.
  • JIS Z 8402-2  Точность (правильность и прецизионность) методов и результатов измерений. Часть 2. Основной метод определения повторяемости и воспроизводимости стандартного метода измерения.
  • JIS Z 8402-6  Точность (правильность и прецизионность) методов и результатов измерений. Часть 6. Использование на практике значений точности.

JIS K 0150:2009 История

  • 2009 JIS K 0150:2009 Химический анализ поверхности. Анализ металлических покрытий на основе цинка и/или алюминия методом оптической эмиссионной спектрометрии тлеющего разряда.



© 2023. Все права защищены.