1.1 В настоящем руководстве приводятся рекомендации по чистоте воды, подходящей для использования в электронной и микроэлектронной промышленности для таких целей, как промывка и ополаскивание полупроводниковых компонентов при операциях очистки и травления, приготовление пара для окисления кремниевых поверхностей, подготовка фотошаблонов, люминесцентных материалов. осаждение и аналогичные применения, связанные с разработкой и изготовлением твердотельных, тонких пленок, лазеров связи, светоизлучающих диодов, фотодетекторов, печатных схем, памяти, электронных ламп или электролитических устройств. 1.2 Значения, указанные в единицах СИ, следует считать стандартными. Единицы измерения дюйм-фунт, указанные в скобках, предназначены только для информации. 1.3 Настоящий стандарт не направлен на решение проблем безопасности, связанных с его использованием. Пользователь настоящего стандарта несет ответственность за установление соответствующих мер безопасности и охраны труда и определение применимости нормативных ограничений перед использованием.
ASTM D5127-99 История
2018ASTM D5127-13(2018) Стандартное руководство для сверхчистой воды, используемой в электронной и полупроводниковой промышленности
2013ASTM D5127-13 Стандартное руководство для сверхчистой воды, используемой в электронной и полупроводниковой промышленности
2012ASTM D5127-12 Стандартное руководство для сверхчистой воды, используемой в электронной и полупроводниковой промышленности
2007ASTM D5127-07 Стандартное руководство для сверхчистой воды, используемой в электронной и полупроводниковой промышленности
1999ASTM D5127-99 Стандартное руководство для сверхчистой воды, используемой в электронной и полупроводниковой промышленности