JIS K 0146:2002 Химический анализ поверхности. Профилирование глубины распыления. Оптимизация с использованием слоистых систем в качестве эталонных материалов.
Настоящий стандарт определяет использование соответствующих однослойных и многослойных эталонных материалов для получения оптимального разрешения по глубине в зависимости от условий измерения в электронной оже-спектроскопии, рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии и масс-спектрометрии вторичных ионов. параметры анализа указаны. Этот стандарт не рассматривает использование специальных многослойных структур, например слоев с дельта-легированием.
JIS K 0146:2002 История
2002JIS K 0146:2002 Химический анализ поверхности. Профилирование глубины распыления. Оптимизация с использованием слоистых систем в качестве эталонных материалов.