DIN 50455-2:1999 Испытание материалов для полупроводниковой техники - Методы характеристики фоторезистов - Часть 2. Определение фоточувствительности позитивных фоторезистов - Стандарты и спецификации PDF

DIN 50455-2:1999
Испытание материалов для полупроводниковой техники - Методы характеристики фоторезистов - Часть 2. Определение фоточувствительности позитивных фоторезистов

Стандартный №
DIN 50455-2:1999
Дата публикации
1999
Разместил
German Institute for Standardization
состояние
быть заменен
DIN 50455-2:1999-11
Последняя версия
DIN 50455-2:1999-11
сфера применения
Способ согласно документу охватывает характеристику фоторезистов путем сравнения определенной фоточувствительности однослойного позитивного фоторезиста на кремниевых пластинах с эталонным фоторезистом.

DIN 50455-2:1999 История

  • 1999 DIN 50455-2:1999-11 Испытание материалов для полупроводниковой техники - Методы характеристики фоторезистов - Часть 2. Определение фоточувствительности позитивных фоторезистов
  • 1999 DIN 50455-2:1999 Испытание материалов для полупроводниковой техники - Методы характеристики фоторезистов - Часть 2. Определение фоточувствительности позитивных фоторезистов



© 2023. Все права защищены.