T/ZJATA 0017-2023
Оборудование для химического осаждения из паровой фазы (CVD) для получения полупроводниковых материалов из карбида кремния (Англоязычная версия)

Стандартный №

T/ZJATA 0017-2023

язык

Китайский, Доступно на английском

Дата публикации

2023

Разместил

Group Standards of the People's Republic of China

Последняя версия

T/ZJATA 0017-2023

сфера применения

Настоящий документ содержит классификацию продукции, условия работы, технические требования, методы испытаний, правила проверки, маркировку, упаковку, транспортировку и хранение эпитаксиального оборудования для химического осаждения из паровой фазы (CVD) (далее «эпитаксиальное оборудование») для изготовления полупроводников из карбида кремния. Требования включают унифицированные технические параметры и методы оценки системы реакционных камер, системы температурного контроля, системы нагрева, вакуумной системы и показателей качества обработки (эпитаксиальной пластины карбида кремния) эпитаксиального оборудования. Благодаря контролю ключевых параметров, таких как надежность, эффективность обработки, температура, давление и расход, гарантируется точность и безопасность оборудования.

T/ZJATA 0017-2023 История

• 2023 T/ZJATA 0017-2023 Оборудование для химического осаждения из паровой фазы (CVD) для получения полупроводниковых материалов из карбида кремния