ASTM F26-87a(1999)

Стандартный №

ASTM F26-87a(1999)

Дата публикации

1970

Разместил

/

Последняя версия

ASTM F26-87a(1999)

сфера применения

1.1 Настоящие методы испытаний 2 охватывают методы определения кристаллографической ориентации поверхности, которая примерно параллельна атомной плоскости с низким индексом в монокристаллах, используемых в основном для полупроводниковых устройств. 1.2 Ниже описаны два типа методов испытаний: 1.2.1 Метод испытаний А, ориентация дифракции рентгеновских лучей. Этот метод испытаний можно использовать для ориентации всех полупроводниковых монокристаллов. 1.2.2 Метод испытаний B, оптическая ориентация. В настоящее время применение этого метода ограничено элементарными полупроводниками. 1.3 Настоящий стандарт не претендует на решение всех проблем безопасности, если таковые имеются, связанных с его использованием. Пользователь настоящего стандарта несет ответственность за установление соответствующих мер безопасности и охраны труда и определение применимости нормативных ограничений перед использованием. Конкретные указания на опасность приведены в разделе 6.

ASTM F26-87a(1999) Ссылочный документ

• ASTM E177 Стандартная практика использования терминов «точность» и «предвзятость» в методах испытаний ASTM*， 1990-10-26 Обновление
• ASTM E82 Стандартный метод испытаний для определения ориентации металлического кристалла*， 1991-10-26 Обновление

ASTM F26-87a(1999) История

• 1970 ASTM F26-87a(1999)