GB/T 32999-2016 Химический анализ поверхности. Профилирование по глубине. Измерение скорости распыления: метод реплики сетки с использованием механического щупового профилометра. (Англоязычная версия)
Настоящий стандарт определяет метод определения скорости ионного распыления при глубоком профилировании с использованием электронной оже-спектроскопии (AES) и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS). Площадь ионного распыления образца составляет от 0,4 мм2 до 3,0 мм2. Настоящий стандарт применим только к латерально однородным нефазовым материалам или однослойным материалам. Скорость ионного распыления определяется глубиной и временем распыления. Глубину распыления измеряют с помощью механического зондового профилометра. В этом стандарте предусмотрен метод преобразования времени ионного распыления в глубину распыления при профилировании глубины при условии постоянной скорости распыления. Этот метод не был разработан для сканирующей зондовой микроскопии, и поэтому его нельзя оценить с помощью сканирующей зондовой микроскопии. Этот метод не подходит для случая, когда площадь напыления составляет менее 0,4 мм 2 , а также для случая, когда шероховатость поверхности, вызванная напылением, значительна по сравнению с глубиной напыления измеренной площади.
GB/T 32999-2016 История
2016GB/T 32999-2016 Химический анализ поверхности. Профилирование по глубине. Измерение скорости распыления: метод реплики сетки с использованием механического щупового профилометра.