BS ISO 23170:2022
Химический анализ поверхности. Глубинное профилирование. Неразрушающее профилирование по глубине тонких наноразмерных пленок оксидов тяжелых металлов на подложках Si с рассеянием ионов средней энергии

Стандартный №

BS ISO 23170:2022

Дата публикации

2022

Разместил

British Standards Institution (BSI)

Последняя версия

BS ISO 23170:2022

сфера применения

1 Область применения В этом документе описан метод количественного профилирования по глубине ультратонких пленок аморфных оксидов тяжелых металлов на подложках Si с использованием рассеяния ионов средней энергии (MEIS).

BS ISO 23170:2022 История

• 2022 BS ISO 23170:2022 Химический анализ поверхности. Глубинное профилирование. Неразрушающее профилирование по глубине тонких наноразмерных пленок оксидов тяжелых металлов на подложках Si с рассеянием ионов средней энергии